Tehnică de Galvanizare
Cumpărătorii noștri externi și interni recunosc performanța superioară a tehnologiilor noastre de galvanizare, care chiar și în condiții defavorabile garantează soluții optime în ceea ce privesc depunerile galvanice. Electroliții sunt soluții optime pentru galvanizare prin imersie sau la tambur.
Electroliți pentru procesul de galvanizare.
CHELUX®
Electrolit de cupru cu cianură. Rezultă o acoperire cu cristaline fine, densă și adezivă, chiar de la straturi mai subțiri. Poate fi utilizat pentru galvanizare prin imersie sau la tambur.
RUBIN
Electrolit de cupru lucios. Sistem cu acid sulfuric cu conținut de coloranți. Creează un luciu intens, acoperă uniform și ductil. Poate fi utilizat pentru galvanizare prin imersie sau la tambur.
| articol | descriere |
|---|---|
| RUBIN F 2000 | Conține coloranți, sistem cu doi componenți + soluție de pornire |
| RUBIN F 1000 | Conține coloranți, sistem cu un component + soluție de pornire |
| RUBIN T 200 | Sistem fără coloranți și fără metanol |
Pre ORION
Electrolit de nichel semi-lucios, fără acid sulfuric, iar datorită diferenței de potențial, oferă un strat rezistent la rugină pentru straturile de nichel lucios depus dupa aceasta.
ORION®, SIRIUS® și POLARIS
Electrolit de nichel lucios. Luciu intens, ductil și creează un strat extrem de uniform pentru o densitate de curent larg.
| articol | descriere |
|---|---|
| ORION 3000+ | Pentru imersie, capacitate de nivelare bună |
| ORION 4000 | Pentru imersie, capacitate de nivelare excelentă |
| SIRIUS | Pentru imersie, capacitate de nivelare bună |
| POLARIS GT 10 | Nichelare pentru tambur |
| POLARIS GT 24 | Nichelare pentru tambur |
MERKUR
Electroliți pentru straturi de nichel cu efect sidefat
| articol | descriere |
|---|---|
| MERKUR C | Sistem cu dispersie, cu conținut de nichel mai mare de 105 g/l |
| MERKUR D | Sistem cu dispersie, cu conținut de nichel mai mare de 105 g/l |
| MERKUR E | Sistem cu dispersie fină, cu conținut scăzut de nichel |
| MERKUR G | Sistem cu dispersie, cu conținut scăzut de nichel |
| MERKUR H | Sistem cu dispersie, cu conținut de nichel mai mare de 105 g/l |
| MERKUR I | Sistem cu dispersie, cu conținut de nichel mai mare de 105 g/l |
| MERKUR K | Sistem cu emulsie, combinat cu unități de încălzire / răcire |
| MERKUR L | Sistem cu dispersie, cu conținut de nichel mai mare de 105 g/l |
SAPHIR®
Procese de cromare lucioasă cu crom trivalent si hexavalent cu putere de pătrundere excelentă. Potrivit pentru toate instalațiile standard.
Electroliți de crom lucios
| articol | descriere |
|---|---|
| SAPHIR 14 | Crom hexavalent |
| SAPHIR 17 | Crom hexavalent |
| SAPHIR 2000 | Sistem de crom trivalent cu bază de sulfat |
Abszorbens gyanták
| articol | descriere |
|---|---|
| SAPHIR 1038 | Pentru îndepărtarea selectivă a metalelor tramp (Ni, Cu și Fe) în SAPHIR 2000 |
| SAPHIR 1076 | Pentru îndepărtarea selectivă a metalelor tramp (Fe și Zn) în SAPHIR 2000 |
Electroliți de crom negru
| articol | descriere |
|---|---|
| SAPHIR TS | Acoperire excelentă și depunere rapidă |
SURFAPLATE
Pretratarea plasticului (sistem coloidal)
Sistemul coloidal
| articol | descriere |
|---|---|
| SURFAPLATE ET–KS | Decapant crom/acid sulfuric |
| SURFAPLATE Reductor | Reductor crom hexavalent |
| SURFAPLATE Activator–KS | Sistem de activare paladiu coloidal |
| SURFAPLATE Accelerator–KS | Catalizator necesar pentru dezintegrarea coloizilor de staniu, acru |
| SURFAPLATE Accelerator–ALC | Catalizator necesar pentru dezintegrarea coloizilor de staniu, alcalin |
| SURFAPLATE EN 1000 | Proces de nichelare chimică fără amoniu |
| SURFAPLATE EN 2000 | Proces de nichelare chimică cu amoniu |
Metalizarea directă
| articol | descriere |
|---|---|
| SURFAPLATE ET | Decapant crom/acid sulfuric |
| SURFAPLATE Reductor | Reductor crom hexavalent |
| SURFAPLATE Activator | Sistem de activare paladiu coloidal |
| SURFAPLATE Selector | Bildet die elektrisch leitende Matrix aus, auf die direkt sauer verkupfert werden kann. |
TOPAS®
Tehnologie de galvanizare alcalină fără cianură. Putere înaltă de patrundere, ductil și acoperire fără tensiune; distribuție excelentă.
TOPAS 4100 poate fi, de asemenea, utilizat ca electrolit de zinc-fier cu ajutorul aditivului nostru TOPAS Fe Additive.
OPAL®
Proces de zinc-nichel alcalin.
Creează o acoperire cu un luciu intens atât în sisteme cu imersie cât și la tambur; are o distribuție si putere de pătrundere foarte bună. Folosire simplă și fiabilă.
| articol | descriere |
|---|---|
| OPAL 5000 | Proces de depunerea aliajului Zinc-Nichel. Se obtin depuneri lucioase atat pe dispozitive cat si in tambur; cu o putere foarte buna de patrundere,si obtinerea unor straturi uniforme, este un proces stabil si usor de controlat. |
| OPAL 7000 | Proces de depunerea aliajului Zinc-Nichel.Dezvoltat special pentru depuneri pe dispozitive; Rezistenta foarte buna la arsuri in zona desitatilor mari de curent; Se obtin stratulri de Zinc-nichel ductile ce suporta deformari ulterioare; Se pot obtine diferite grade de luciu, de la straturi tehnice la straturi foarte lucioase. |
KORONA®, SYSTOTIN
Baie acidă de staniu strălucitor
| articol | descriere |
|---|---|
| KORONA® |
|
| SYSTOTIN |
|
TURMALIN
Cuprare alcalina /fara cianura
Depuneri dense, aderente si semilucioase cu putere excelenta de patrundere
SAPHIR® Electroliți de crom dur
Proces de cromare dură și la curent foarte ridicat. Disponibil cu o varietate de sisteme de catalizator.
| articol | descriere |
|---|---|
| SAPHIR 25 | Electrolit de crom dur,depunere rapidă, fără fluorură, pentru aplicare este neceasră anod de titan platinat |
| SAPHIR 40 | Electrolit de crom dur, depunere rapida, fără fluorură |